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HY管式爐

回轉爐回轉管式爐氨分解工業管式爐 900系列三溫區管式爐 GLJZ-3-1200多工位旋轉管式爐開啟式立式管式爐1200℃ 開啟式立式管式爐1500℃ 1200℃三聚氯膠管式爐 1600℃三溫區高溫管式爐 1600℃雙溫區高溫氣氛管式爐 1200℃五溫區開啟式管式爐 1200℃小型開啟式真空管式爐 1400℃三溫區管式爐 1700℃精密真空氣氛管式爐開啟式管式爐

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1400℃三溫區管式爐

更新時間：2021-03-06

瀏覽量：1368

1400℃三溫區管式爐采用智能化程序溫控系統，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛；以優質硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統，可控硅控制，控溫精度高；爐腔采用日本技術真空吸附成型的優質1600型氧化鋁多晶體纖維無機材料拼搭結構，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統，有效保證外殼表面溫度；內置三個溫區，可營造不同的溫度梯度。
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1700℃精密真空氣氛管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：1454

1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
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1200開啟式管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：1686

開啟式管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉（PECVD）。
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